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A200便攜式氦質譜檢漏儀

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A200便攜式氦質譜檢漏儀

  • 所屬分類:氦質譜檢漏儀

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  • 發布日期:2018/10/29
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詳細介紹

A200便攜式氦質譜檢漏儀

  ( 靈敏度高、操作便捷、低維護

 

A200便攜式氦質譜檢漏儀廣泛應用于科研院所、航空航天、動力鋰電池,閥門、精密儀表、機械加工、電力、電廠、光伏、真空鍍膜、真空熱處理等。

A200支持正壓檢漏,負壓檢漏,自動跟蹤本底,提供快速可靠的測量結果,優化設計的質譜系統和智能算法確保在所有量程快速響應,高可靠性的真空系統和質譜系統確??焖偾搴?,支持氮氣破空,不受環境氦氣干擾,快速降低本底,機器卓越的性能支持7*24小時長時間在線測試,機器卓越的性能支持幾秒一次的高頻率測試,配有檢漏口精細過濾器,過濾細微雜質,確保機器不受雜質影響和損傷,雙銥絲離子源,有效的系統設計,防大氣沖擊,支持定制檢漏工作臺,更加便捷使用。

 

A200.png

 圖1:A200便攜式氦質譜檢漏儀

 

一、技術規格

 

項目

描述

可檢測氣體

4He

Z小可檢測漏率

真空法

<5x10-13pa.m3/s5x10-12mbar.L/s

吸槍法

<1x10-8pa.m3/s1x10-7mbar.L/s

檢測模式

Gross(粗檢), Fine(精檢), Ultra(超精檢)

檢測方法

真空(Vacuum),吸槍(Sniff)

入口法蘭

KF25

Z大入口壓力

粗檢:15mbar

精檢:2mbar

超精檢:0.4mbar

分子泵抽速

2.5l/s (SplitFlow 80)

前級泵抽速

1.8m3/h旋片泵,內置

響應時間

真空(63% signal1s

吸槍(3m):<1s

自檢

支持,內置漏,帶證書

工作溫度

 10 ~ 40

工作電壓

115/230 VAC, 50/60 Hz

重量

45kg

功耗

400W

尺寸(mm

523 x510 x297

二、應用領域(Application Scenarios)

◆科學研究:

Electron microscopy – 電子顯微鏡

Mass spectrometry – 質譜

Surface analysis – 表面分析

Plasma monitoring – 等離子體監測

Residual gas analysis – 殘余氣體分析

...

半導體

Lithography鋰電池

PVD /CVD

Plasma etching等離子刻蝕

MBE 分子束外延

鍍膜

Hard disk coating – 硬盤鍍膜

Photovoltaics – 光伏

Glass coating (PVD) – 玻璃鍍膜

Optical coating (PVD) – 光學鍍膜

Wear protection (PVD, CVD) –硬質涂層

Web coating – 卷繞鍍膜

◆工業

Medical technology – 醫學技術

Industrial leak detection – 工業檢漏

Electron beam welding – 電子束焊接

Lamp /tube manufacturing – 燈管制造

Automobile –汽車制造

Aerospace-航天航空

科學研究

Nuclear research – 核研究

Fusion technology – 聚變技術

Plasma research – 等離子研究

Nanotechnology – 納米技術

Biotechnology – 生物技術

 

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